有机合成中的 保护基团PPT学习教案.pptx

会计学
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有机合成中的+保护基团
第七章 保护基团
总的说来，保护基应满足下列三点要求：
1. 它容易引入所要保护的分子（温和条件）;
2. 它与被保护基形成的结构能够经受住所要发生的反应的条件;
3. 它可以在不损及分子其余部分的条件下除去（温和条件）;
在一些例子中，最后一条可以放宽，允许保护基被直接转变为另一种官能团。
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7.1 羟基的保护基团
保护醇类 ROH 的方法一般是制成醚类 (ROR′) 或酯类(ROCOR′)，前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。
1. 形成甲醚类 ROCH3
可以用碱脱去醇ROH质子，再与合成子 ＋CH3作用，如使用试剂NaH / Me2SO4。也可先作成银盐 RO-Ag+ 并与碘甲烷反应，如使用 Ag2O / MeI；但对三级醇不宜使用这一方法。醇类也可与重氮甲烷CH2N2，在Lewis酸（如BF3·Et2O）催化下形成甲醚.
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7.1 羟基的保护基团
脱去***保护基，回复到醇类，通常使用Lewis酸，如BBr3及Me3SiI，也就是引用硬软酸碱原理（hard-soft acids and bases principle），使氧原子与硼或硅原子结合（较硬的共轭酸），而以溴离子或碘离子（较软的共轭碱）将***（较软的共轭酸）除去。
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7.1 羟基的保护基团
2. 形成叔丁基醚类 ROC（CH3）3
醇与异丁烯在Lewis 酸催化下制备。叔丁基为一巨大的取代基（bulky group），脱去时需用酸处理：
3. 形成苄醚 ROCH2Ph：
制备时，使醇在强碱下与苄溴 (benzyl bromide)反应，通常以加氢反应或锂金属还原，使苄基脱除，并回复到醇类。
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7.1 羟基的保护基团
4. 形成三苯基甲醚 (ROCPh3)
制备时，以三苯基***甲烷在吡啶中与醇类作用，而以 4-二甲***基吡啶（4-dimethyl aminopyridine, DMAP）为催化剂。
三苯***（trityl group）是一巨大基团，脱去时用加氢反应，或锂金属处理。因为有位阻的醇进行三苯***化被一级醇慢得多，所以能够选择性的保护。
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7.1 羟基的保护基团
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7.1 羟基的保护基团
5. 形成甲氧基甲醚 ROCH2OCH3
制备时，使用甲氧基***甲烷与醇类作用，并以三级***吸收生成的HCl。甲氧基甲醚在碱性条件下和一般质子酸中有相当的稳定性，但此保护基团可用强酸或Lewis酸在激烈条件下脱去。
6. 形成二甲硅醚 ROSi（CH3）3
制备时，用三******硅烷与醇类在三级***中作用。此保护基在酸中不太稳定，也可以用***离子F-脱去（Si-F的键结力甚强，大于Si-O的键能）。
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7.1 羟基的保护基团
7. 形成四氢吡喃 ROTHP
制备时，使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。欲回收恢复到醇类时，则在酸性水溶液中进行水解，即可脱去保护基团。有机合成中常引用这种保护基团，其缺点是增加一个不对称碳（缩***上的碳原子），使得NMR谱的解析较复杂。
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7.1 羟基的保护基团
8. 形成叔丁基二甲硅醚 ROSiMe2（t-Bu）
制备时，用叔丁基二******硅烷与醇类在三级***中作用，此保护基比三***硅基稳定，常运用在有机合成反应中，一般是F-离子脱去。
9. 形成乙酸酯类 ROCOCH3
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