第五章2 硅片的清洗. 第五章 高纯水的制备与硅片的清洗 2硅片表面的常见污染 1有机杂质沾污：主要指包含碳的物质，来源包括细菌润滑剂清洁剂等等。在微加工设备中使用不需要润滑剂的组件带来的问题：有机物污染能降低栅氧化层材料的 2022年06月18日 0 点赞 32 浏览
